Millist jõudlust peab silikoonil olema silikooni reljeefse tugevuse ja pestavuse tagamiseks?

Millist jõudlust peab silikoonil olema silikooni reljeefse tugevuse ja pestavuse tagamiseks?
Molekulmass ja ristsidumise tihedus
Molekulmass: suure molekulmassiga silikoonil (näiteks tahke silikoon) on pikemad molekulaarsed ahelad ja tugevamad molekulidevahelised jõud. Konstruktsioon on pärast reljeefnet stabiilsem ja väliste jõudude (näiteks puhastamine) ei ole seda kergelt kokku varisenud.
Ristsidumine tihedus:
Kõrge ristsidumisega silikoonil (kõrge vulkaniseerumise aste) on tihe võrgustruktuur, mille moodustavad molekulaarsed ahelad, suurem kõvadus ja jäikus ning tugevam reljeefse mustrite "tugi";
Madala ristsidumistihedusega silikoonil (pehme silikoon) on hea elastsus, kuid nõrk tugi, mis sobib madalate mustrite või painduvate reljeefseteks (näiteks beebihambad), ja sügavaid nõgusaid mustreid on lihtne deformeeruda.
Kõvadus (kalda a)
Kõvadus mõjutab otseselt mustri tugevust:
Kõrge karmilisusega silikoon (näiteks 60-80 kalda A): sobib sügava nõgusa ja keeruka kolmemõõtmeliste mustrite jaoks, näiteks tööstuslikud libisemisvastased matid ja automatid, ning seda pole pesemisel kerge variseda;
Madala karmistusega silikoon (näiteks 20-40 kalda a): pehme tekstuur, mis sobib madalate mustrite või stseenide jaoks, mis peavad mahutama kõverdatud pindade (näiteks käevõru dekoratiivsed mustrid), kuid võib pärast pikaajalist pesemist pisut deformeeruda.
Pisara tugevus ja tagasilöögikiirus
Suure pisaratugevusega silikooni (suurem kui 15 kN\/m -ga või võrdne) ei ole hõõrdumise tõttu reljeefse serva (näiteks pesemise ajal hõõrumine);
Kõrge laskumissagedusega silikoon (suurem või võrdne 70%) saab pärast rõhu deformeerumist kiiresti oma algse kuju juurde naasta, vältides mustri püsivat kokkuvarisemist pärast pesemist.